少層石墨的制備方法有哪些？

少層石墨的制備方法有哪些？
來(lái)源：東莞市捷誠(chéng)石墨制品有限公司 發(fā)布時(shí)間：2019-12-09 點(diǎn)擊次數(shù)：198


采用撕裂帶法和氧化還原法制備了低層石墨，用拉曼光譜停止了試樣的分段鉆削。利用高定向熱解石墨(HOPG)良好的層狀結(jié)構(gòu)，用多次撕裂帶法在300 nm SiO 2/Si和Si襯底上發(fā)現(xiàn)石墨損失較少。與薄、厚樣品的拉曼光譜比較后，可以分辨出低層石墨。從光學(xué)顯微圖像來(lái)看，300 nm SiO 2/Si襯底上低層石墨的光學(xué)比照度較好，拉曼光譜測(cè)試表明，在300 nm SiO 2/Si襯底上已失去單層石墨，即石墨烯。以高純石墨粉為原料，用改進(jìn)的悍馬法制備了氧化基油墨(GO)的拉曼光譜。結(jié)果表明，氧化后石墨的2D峰消失，D峰和G峰變寬，強(qiáng)度比變大，表明樣品的結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化，缺陷有所增加。結(jié)果表明，石墨的2D峰消失，D峰和G峰變寬，強(qiáng)度比變大，表明石墨的結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化，缺陷有所增加。

石墨烯是目前社會(huì)上最薄的二維碳數(shù)據(jù)之一.石墨烯儲(chǔ)存具有較高的載流子遷移率，其電子存儲(chǔ)處于亞微米級(jí)管道傳輸特性，室溫沉積電子傳輸速率非常快。該部門(mén)的優(yōu)良性質(zhì)使其在納米電子零件領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。

XRD測(cè)試結(jié)果表明石墨峰消失，Go衍射峰出現(xiàn)，表明石墨被氧化。認(rèn)為低壓水壺的熱回收和水合肼的化學(xué)修復(fù)阻止了GO的回收。通過(guò)拉曼光譜的合成，得出如下結(jié)論：(1)石墨的2D峰是從新出現(xiàn)的GO轉(zhuǎn)變而來(lái)的。(2)通過(guò)對(duì)ID/G值的比較，得出低壓釜熱回收法在一定程度上停止了對(duì)石墨氧化過(guò)程中缺陷的修復(fù)，回收效果優(yōu)于水合肼。XRD測(cè)試表明，石墨的特征衍射峰增強(qiáng)，GO的衍射峰減弱，GO的衍射峰恢復(fù)。修復(fù)產(chǎn)物在水中和NMP中的分散表明，修復(fù)后的GO中存在少量親水性基團(tuán)的缺失。Go及其修復(fù)產(chǎn)物的PL光譜表明，GO粉末為綠色，還原產(chǎn)物為藍(lán)色，這也說(shuō)明修復(fù)后GO的結(jié)構(gòu)發(fā)生了變化。拉曼光譜是鑒別石墨烯和無(wú)效手腕的一種無(wú)害、快速、準(zhǔn)確的方法，GO和恢復(fù)產(chǎn)物的結(jié)構(gòu)表征范圍也是其主要意義。